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產(chǎn)品名稱：MX-1204，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
產(chǎn)品型號：MX-1204
產(chǎn)品廠商：日本DNK大日本科研
產(chǎn)品價格：0
折扣價格：0
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簡單介紹：

MX-1204，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505 MX-1204，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505 MX-1204，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505

詳情介紹：

MX-1204，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1204，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1204，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
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MX-1204，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1204，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505

利用獨自的高速描畫「Point Of Array方式」技術(shù)直接描畫圖形的裝置。

特長：

能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。
能夠?qū)?yīng)以**PCB、高密度Packaging、平板顯示(FPD)等為首的MEMS等微細加工領(lǐng)域。
由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應(yīng)時間。
此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應(yīng)的裝置構(gòu)造。
マスクレス露光裝置

	MX-1201	MX-1201	MX-1201E	MX-1204	MX-1702E
*小線幅 (※1)	5μm	5μm	3μm	1μm	10μm
數(shù)據(jù)分辨率	0.5μm	0.5μm	0.25μm	0.122μm	1.0μm
*大基板尺寸	200 x 200mm	200 x 200mm	200 x 200mm	150 x 150mm	550 x 650mm
有效曝光范圍	200 x 200mm	200 x 200mm	200 x 200mm	150 x 150mm	550 x 650mm
激光主波長	405±5nm	375±5nm	405±5nm	375±5nm	405±5nm
曝光掃描速度	43.9ｍｍ/ｓ		22.5ｍｍ/ｓ	10.9ｍｍ/ｓ	92.2ｍｍ/ｓ
光學引擎裝配數(shù)量	1				7